光電化學工作站可以根據(jù)自己的需要做更多的探索
點擊次數(shù)：5424 更新時間：2019-10-25
光電化學工作站是將光化學與電化學方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應現(xiàn)象、規(guī)律及應用的儀器，可用于研究光直接影響電極過程的電化學、用于光能與電能和化學能的轉(zhuǎn)換測量、光電化學電池的光電轉(zhuǎn)化測量、光電合成。利用光電化學原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息，這些都是發(fā)展科學技術所必需的手段。
光電化學工作站采用閉環(huán)控制技術調(diào)節(jié)和調(diào)制光強和單色光, 從而保證了光源的穩(wěn)定性. 在儀器匹配的光源內(nèi)裝有光強傳感器, 工作時系統(tǒng)自動比較并計算測得的實際光強與設定值的偏差并加以校正,這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產(chǎn)生的光強輸出誤差。不僅如此，光電化學工作站儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數(shù)值校正光源，非常方便。該工作站負責控制、驅(qū)動激發(fā)光源，輸出強度調(diào)制光信號。
一、其他常規(guī)的電化學方法
恒電位技術：開路電位&時間測量曲線、單電位階越計時電流法、雙電位階越計時電流法、單電位階越計時電量法、
雙電位階越計時電量法、恒電位電解庫侖分析法；
線性掃描技術：線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；
脈沖技術：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；
方波技術：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學功能)。
二、光電化學工作站支持的應用
支持的直流實驗技術：
循環(huán)伏安、線性掃描、開路電位、計時電流/計時庫倫、線性掃描計時電流、計時電位、差分脈沖伏安、常規(guī)脈沖伏安、方波伏安、三角波伏安、馳豫伏安、階梯伏安、Tafel掃描、脈沖電鍍、溶出伏安
支持的交流技術：
交流阻抗（EIS）、不同參數(shù)下的交流阻抗（如：莫特-肖特基等）、頻響分析
支持的充放電方法：
恒電流充放電、恒電壓充放電、恒電阻放電、恒功率放電、滿功率放電、限制容量充放電、充放電期間的電化學阻抗測試、穩(wěn)態(tài)電流/電壓曲線
三、光電化學工作站軟件操作靈活
1、采用更易于接觸的類office風格測試界面，所有命令一目了然的顯示于下拉菜單之中，使初學者能夠在Z短的時候內(nèi)熟悉軟件操作，并且開放源代碼給用戶，可以根據(jù)自己的需要做更多的探索。
2、軟件強大的編程能力，光電化學工作站用戶可根據(jù)對實現(xiàn)體系的設計和理解，做上述所有電化學方法和電化學過程的組合，而這些操作，僅通過鼠標即可實現(xiàn)。
3、離線分析處理，電化學軟件可脫機使用，從而避免了分析數(shù)據(jù)需要占用測試電腦的尷尬，而數(shù)據(jù)處理的地點也可以更加的輕松隨意。
